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| SENTECH光譜橢偏儀的型號技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用 |
| 點擊次數(shù)：390 更新時間：2025-01-21 |
SENTECH光譜橢偏儀的型號技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用 SENTECH是一家專注于光譜橢偏儀研發(fā)和生產(chǎn)的公司，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于薄膜、材料分析等領(lǐng)域。以下是幾種SENTECH光譜橢偏儀的型號、技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用。 1. SENresearch - 光譜范圍：190nm–2500nm - 測量速度：快速 - 測量精度：高 - 應(yīng)用： - 薄膜厚度測量 - 折射率測量 - 吸收系數(shù)測量 - 材料性質(zhì)描述，如材料組分、折射率梯度、表面和界面粗糙層、各向異性材料和多層膜 - 分析不理想的樣品，如退偏效應(yīng)，非均勻樣品，散射和背板反射 - 地貌圖掃描選項，支持對復雜多層膜樣品在全波段快速測量并分析其均勻性。 2. SENpro - 光譜范圍：370到1050nm - 測量速度：快速 - 操作：簡單 - 數(shù)據(jù)分析：直觀 - 應(yīng)用： - 測量單層和多層膜的厚度和光學常數(shù) - 成本效益高，適合預算有限的研究和工業(yè)應(yīng)用 - 自動掃描功能，支持均勻性測量。 3. SENDURO - 光譜范圍：未明確給出，但適用于透明和反射基片上單層薄膜和層疊膜的測量 - 測量速度：快速，總時間只需幾秒鐘 - 自動化程度：高，全自動模式，自動對準傳感器 - 應(yīng)用： - 質(zhì)量控制和研發(fā)中的常規(guī)應(yīng)用 - 生產(chǎn)和工藝監(jiān)控 - 半導體上的介質(zhì)膜到玻璃上的多層光學涂層的測量 - 預定義或用戶定義的自動掃描模式，允許廣泛的統(tǒng)計特性和數(shù)據(jù)圖形顯示。 4. SER 800 PV - 光譜范圍：未明確給出，但優(yōu)化用于光伏應(yīng)用 - 測量靈敏度：高 - 去偏振校正：具備 - 應(yīng)用： - 光伏應(yīng)用中的紋理晶體和多晶硅太陽能電池上抗反射涂層和功能層的測量 - 單片薄膜和多層堆疊物的測量 - 公式模式特別適用于質(zhì)量控制中所需的常規(guī)應(yīng)用。 5. SENresearch 4.0 - 光譜范圍：190nm(深紫外)到3500nm(近紅外)- 測量精度：高 - 應(yīng)用： - 光譜橢偏儀，適用于全穆勒矩陣、各向異性、廣義橢偏、散射測量等 - 寬光譜范圍和高光譜精度，適用于多種材料和薄膜的測量。 總結(jié) SENTECH光譜橢偏儀系列涵蓋了從基礎(chǔ)研究到工業(yè)應(yīng)用的多種需求，具有廣泛的光譜范圍、快速的測量速度和高精度的特點。這些儀器在薄膜、材料分析、光伏應(yīng)用等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，能夠滿足不同用戶的需求。 |
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